Polisilicij je važan ciljni materijal za raspršivanje.Upotreba metode magnetronskog raspršivanja za pripremu SiO2 i drugih tankih filmova može učiniti da materijal matrice ima bolju optičku, dielektričnu i otpornost na koroziju, koja se široko koristi u ekranima osjetljivim na dodir, optičkoj i drugim industrijama.
Proces livenja dugih kristala je da se ostvari usmereno skrućivanje tekućeg silicijuma od dna ka vrhu postepeno preciznom kontrolom temperature grejača u vrućem polju peći za ingote i rasipanje toplote toplotnoizolacionog materijala, i brzina očvršćavanja dugih kristala je 0,8 ~ 1,2 cm/h.Istovremeno, u procesu usmjerenog skrućivanja, može se ostvariti efekat segregacije metalnih elemenata u silicijumskim materijalima, većina metalnih elemenata se može pročistiti i formirati uniformna polikristalna struktura zrna silicijuma.
Lijevni polisilicij također treba namjerno dopirati u procesu proizvodnje, kako bi se promijenila koncentracija akceptorskih nečistoća u talini silicijuma.Glavni dopant livenog polisilicijuma p-tipa u industriji je silicijum-bor-master legura, u kojoj je sadržaj bora oko 0,025%.Količina dopinga određena je ciljnom otpornošću silikonske pločice.Optimalna otpornost je 0,02 ~ 0,05 Ω • cm, a odgovarajuća koncentracija bora je oko 2 × 1014 cm-3。 Međutim, koeficijent segregacije bora u silicijumu je 0,8, što će pokazati određeni efekat segregacije u procesu usmjerenog očvršćavanja, tj. je, element bora je raspoređen u gradijentu u vertikalnom smjeru ingota, a otpornost postepeno opada od dna prema vrhu ingota.
Vrijeme objave: Jul-26-2022