Vakuumsko premazivanje se odnosi na zagrijavanje i isparavanje izvora isparavanja u vakuumu ili raspršivanje uz ubrzano ionsko bombardiranje, te nanošenje istog na površinu supstrata kako bi se formirao jednoslojni ili višeslojni film.Koji je princip vakuumskog premaza?Zatim će nam ga predstaviti urednik RSM-a.
1. Vakuumski premaz za isparavanje
Oblaganje isparavanjem zahtijeva da udaljenost između molekula pare ili atoma od izvora isparavanja i podloge koja se oblaže treba biti manja od prosječnog slobodnog puta molekula zaostalih plinova u prostoriji za premazivanje, kako bi se osiguralo da molekuli pare u isparavanje može doći do površine podloge bez sudara.Uvjerite se da je film čist i čvrst, te da isparavanje neće oksidirati.
2. Vakuumski premaz
U vakuumu, kada se ubrzani ioni sudare s čvrstim tijelom, s jedne strane dolazi do oštećenja kristala, s druge strane sudara se s atomima koji čine kristal i konačno atomima ili molekulama na površini čvrste tvari. prskati prema van.Raspršeni materijal se nanosi na podlogu kako bi se formirao tanak film, koji se naziva vakuumsko raspršivanje.Postoji mnogo metoda raspršivanja, među kojima je najranije raspršivanje dioda.Prema različitim katodnim ciljevima, može se podijeliti na jednosmjernu (DC) i visokofrekventnu (RF).Broj atoma koji su raspršeni udarom iona u ciljnu površinu naziva se brzina raspršivanja.Sa velikom brzinom raspršivanja, brzina formiranja filma je velika.Brzina raspršivanja je povezana sa energijom i vrstom jona i vrstom ciljanog materijala.Uopšteno govoreći, brzina raspršivanja raste sa povećanjem energije ljudskih jona, a brzina raspršivanja plemenitih metala je veća.
Vrijeme objave: Jul-14-2022