Razlike između premaza evaporacijom i premaza raspršivanjem

Kao što svi znamo, metode koje se obično koriste u vakuumskom premazivanju su vakuumska transpiracija i ionsko raspršivanje.Koja je razlika između transpiracijskog premaza i premaza za raspršivanje Mnogiljudi imati takva pitanja.Podijelimo s vama razliku između transpiracijskog premaza i premaza raspršivanjem

Vakumski transpiracijski film je za zagrijavanje podataka koji se transpiriraju na fiksnu temperaturu pomoću otpornog zagrijavanja ili elektronskog snopa i laserskog granatiranja u okruženju sa stepenom vakuuma ne manjim od 10-2Pa, tako da energija toplinske vibracije molekula ili atoma u podacima premašuje energiju vezivanja površine, tako da se mnoge molekule ili atomi transpiriraju ili povećavaju i direktno ih talože na podlogu kako bi se formirao film.Premaz ionskim raspršivanjem koristi visoko otporno kretanje pozitivnih iona generiranih plinskim pražnjenjem pod djelovanjem električnog polja za bombardiranje mete kao katode, tako da atomi ili molekuli u meti pobjegnu i talože se na površini obloženog radnog komada kako bi se formirali potreban film.

Najčešće korištena metoda vakuumskog transpiracijskog premaza je metoda otpornog zagrijavanja.Njegove prednosti su jednostavna struktura izvora grijanja, niska cijena i praktičan rad.Njegovi nedostaci su što nije pogodan za vatrostalne metale i medije otporne na visoke temperature.Grejanje elektronskim snopom i lasersko grejanje mogu da prevaziđu nedostatke otpornog grejanja.U grijanju elektronskim snopom, fokusirani snop elektrona se koristi za direktno zagrijavanje obloženih podataka, a kinetička energija snopa elektrona postaje toplinska energija za transpiraciju podataka.Lasersko grijanje koristi laser velike snage kao izvor grijanja, ali zbog visoke cijene lasera velike snage može se koristiti samo u malom broju istraživačkih laboratorija.

Vještina prskanja se razlikuje od vještine vakuumske transpiracije.Raspršivanje se odnosi na fenomen da nabijene čestice bombardiraju natrag na površinu (metu) tijela, tako da se čvrsti atomi ili molekuli emituju sa površine.Većina emitovanih čestica je atomska, što se često naziva raspršenim atomima.Raspršene čestice koje se koriste za granatiranje ciljeva mogu biti elektroni, ioni ili neutralne čestice.Budući da je joni lako dobiti potrebnu kinetičku energiju pod električnim poljem, joni se uglavnom biraju kao ljušteće čestice.

Proces raspršivanja se zasniva na užarenom pražnjenju, to jest, joni koji se raspršuju dolaze iz gasnog pražnjenja.Različite vještine raspršivanja imaju različite metode sjajnog pražnjenja.DC raspršivanje dioda koristi DC sjajno pražnjenje;Triodno raspršivanje je užareno pražnjenje podržano vrućom katodom;RF raspršivanje koristi RF sjajno pražnjenje;Magnetronsko raspršivanje je sjajno pražnjenje kontrolirano prstenastim magnetnim poljem.

U poređenju sa vakuumskim transpiracionim premazom, raspršivanje ima mnogo prednosti.Ako se bilo koja supstanca može raspršiti, posebno elementi i jedinjenja sa visokom tačkom topljenja i niskim pritiskom pare;Adhezija između raspršenog filma i podloge je dobra;Visoka gustoća filma;Debljina filma se može kontrolisati i ponovljivost je dobra.Nedostatak je što je oprema složena i zahtijeva visokonaponske uređaje.

Osim toga, kombinacija metode transpiracije i metode raspršivanja je ionsko nanošenje.Prednosti ove metode su jaka adhezija između filma i podloge, visoka stopa taloženja i velika gustoća filma.